TEM Grids, Graphenoxid auf Siliciumnitrid mit 2.5µm Löchern, verschiedene Lagen, Si
Graphenoxidfilm mit unterschiedlicher Anzahl von Lagen, unterstützt von einem Siliciumnitrid-Film auf einem hexagonalen 3mm großen Silicium Substrat mit 0.5x0.5mm großen Apertur. Die TEM Grids sind mit Graphenoxidfilm von 1 oder 2 Lagen erhältlich. Ideal geeignet für Nanopartikelanalysen.
Beschreibung
Dünne Monolagen von Graphenoxid werden durch Oxidation von Graphen mittels eines geschützten Prozesses erzeugt.
Eigenschaften
- Graphenoxid ist in 2 Stärken verfügbar: 1 oder 2 Lagen
- Substrat ist ein 200nm dünner Siliciumnitrid-Film mit ca. 6400 2.5µm großen Löchern auf einem 200µm dicken hexagonalen 3.0mm Silicium Substrat mit einer 0.5x0.5mm großen Apertur
- Graphenoxidabdeckung ca. 70%
- Graphenoxidfilm ist hydrophil und somit besser für Life Science Anwendungen geeignet als Graphenfilme
Specifications
| Typ | Graphenoxid Dicke* | Substrat | Trägerfilm |
| 1 Lage | 0.8 – 1.2nm | Silicium, AP 0.5x0.5mm | Siliciumnitrid 2.5µm Löcher |
| 2 Lagen | 1 – 1.5nm | Silicium, AP 0.5x0.5mm | Siliciumnitrid 2.5µm Löcher |
*gemessen mit EELS
Weitere Informationen
| Beschichtung |
Graphene Oxide
|
|---|---|
| Filmdicke | 0,8 - 1,5nm |
| Material |
Silizium Nitrid
|
| Materialkürzel | Si |
| Mesh Typ |
Einzelloch
|
| Hersteller |
EMS
|