TEM Grids, Graphene Oxide on Silicon Nitride, 2.5µm Holes, various Layers

TEM Grids, Graphenoxid auf Siliciumnitrid mit 2.5µm Löchern, verschiedene Lagen, Si

Graphenoxidfilm mit unterschiedlicher Anzahl von Lagen, unterstützt von einem Siliciumnitrid-Film auf einem hexagonalen 3mm großen Silicium Substrat mit 0.5x0.5mm großen Apertur. Die TEM Grids sind mit Graphenoxidfilm von 1 oder 2 Lagen erhältlich. Ideal geeignet für Nanopartikelanalysen.

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Artikelname	Menge
TEM Grids, Graphenoxid auf Siliciumnitrid mit 2.5µm Löchern, 1 Lage, 5 Stück E1GOSiN2.5um-5 444,90 € 529,43 €
TEM Grids, Graphenoxid auf Siliciumnitrid mit 2.5µm Löchern, 2 Lagen, 10 Stück E2GOSiN2.5um-10 825,20 € 981,99 €
TEM Grids, Graphenoxid auf Siliciumnitrid mit 2.5µm Löchern, 1 Lage, 10 Stück E1GOSiN2.5um-10 848,00 € 1.009,12 €
TEM Grids, Graphenoxid auf Siliciumnitrid mit 2.5µm Löchern, 2 Lagen, 25 Stück E2GOSiN2.5um-25 1.462,90 € 1.740,85 €
TEM Grids, Graphenoxid auf Siliciumnitrid mit 2.5µm Löchern, 1 Lage, 25 Stück E1GOSiN2.5um-25 1.511,50 € 1.798,69 €
TEM Grids, Graphenoxid auf Siliciumnitrid mit 2.5µm Löchern, 2 Lagen, 5 Stück E2GOSiN2.5um-5 428,40 € 509,80 €

Produktdetails

Beschreibung

Dünne Monolagen von Graphenoxid werden durch Oxidation von Graphen mittels eines geschützten Prozesses erzeugt.

Eigenschaften

Graphenoxid ist in 2 Stärken verfügbar: 1 oder 2 Lagen
Substrat ist ein 200nm dünner Siliciumnitrid-Film mit ca. 6400 2.5µm großen Löchern auf einem 200µm dicken hexagonalen 3.0mm Silicium Substrat mit einer 0.5x0.5mm großen Apertur
Graphenoxidabdeckung ca. 70%
Graphenoxidfilm ist hydrophil und somit besser für Life Science Anwendungen geeignet als Graphenfilme

Specifications

Typ	Graphenoxid Dicke*	Substrat	Trägerfilm
1 Lage	0.8 – 1.2nm	Silicium, AP 0.5x0.5mm	Siliciumnitrid 2.5µm Löcher
2 Lagen	1 – 1.5nm	Silicium, AP 0.5x0.5mm	Siliciumnitrid 2.5µm Löcher