Plasmareiniger und Pumpstände

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Plasmareiniger und Pumpstände werden für die präzise Oberflächenbehandlung, Reinigung und kontaminationsfreie Aufbewahrung von Probenhaltern und Proben verwendet. Diese Geräte nutzen Plasmatechnologie und Vakuum, um organische Verunreinigungen, Oxide oder Rückstände von Substraten wie Glas, Metallen, Halbleitern oder Kunststoffen, sowie von Probenmaterial gezielt zu entfernen.

Plasmacleaner sind in der Regel einfachen Glimmentladungsgeräten in Sachen Reproduzierbarkeit, Kontrollierbarkeit überlegen und für eine große Bandbreite von Anwendungen verwendbar. Der Einsatz von kontrollierten Gasentladungen erzeugt hochreine, aktivierte Oberflächen – ideal für nachfolgende Prozesse wie Analyse, Imaging, Beschichtung, Kleben oder Bonding.

Tergeo EM Tabletop Plasmareiniger

Der Tergeo EM Plasmareiniger ist ein Labor-Plasmasystem für TEM- und REM-Proben, TEM Grids und REM-Probenhalter. Er kann zwei TEM-Probenhalter oder Proben bis zu einer Größe von zwei 100mm Wafern aufnehmen.

Das Tergeo-Plasmasystem kann in zwei Reinigungsmodi betrieben werden: Immersions-Plasmareinigung für hohe Ätzraten und Oberflächenmodifikation, sowie Remote-Plasmareinigung zur sanften Entfernung von Oberflächenverunreinigungen von SEM/TEM Proben. Bei gepulstem Betrieb für extrem empfindliche Proben kann ein Plasma mit einer durchschnittlichen HF-Leistung von weniger als 0,5W erzeugt werden.

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Tergeo-Serie Tabletop-Plasmareiniger

Tergeo, Tergeo-Plus und Tergeo-Pro sind automatisierte, vielseitige Tisch-Plasmareinigungs- und Ätzsysteme für Forschungs-, Entwicklungs- und Kleinserienlabore. Sie zeichnen sich durch solide Leistung bei der Oberflächenreinigung, Aktivierung, Entfernung organischer Verunreinigungen, Verbesserung der Haftung und Fotolackveraschung aus.

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EM-KLEEN In-Situ Plasma Cleaner, Standardkonfiguration

Der EM-KLEEN In-situ-Remote-Plasmareiniger kann zur In-situ-Reinigung von Proben und Vakuumkammern von Elektronenmikroskopen und anderen Arten von Analyseinstrumenten wie SEM, FIB, TEM, XPS und SIMS verwendet werden. Es kann Kohlenwasserstoff- und Fluorkohlenstoffverunreinigungen innerhalb der Vakuumkammer und organische Verunreinigungen auf der Oberfläche von Proben z.B. vor der Analyse effektiv entfernen.

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