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Linkam Ultra-Hochtemperatur-Tisch, RT bis 1500°C

Mit einem Temperaturbereich von Raumtemperatur bis 1500 °C* ist der TS1500 ideal für die Untersuchung von Keramik, Metallurgie, Werkstoffen, Geologie und Hochtemperatur-Kunststoffen sowohl bei hohen als auch bei niedrigen Heiz- und Kühlraten.

*Wasserpumpe nicht enthalten

Artikel für gruppiertes Produkt
Artikelname Menge
Linkam TS1500-7/3 - Ultrahochtemperatur (UHT)-Tisch, RT bis 1500°C

LK11013

Linkam TS1500V-7/3 - Ultrahochtemperatur (UHT)-Tisch mit Vakuumanschlüssen, RT bis 1500°C

LK11014

Produktdetails

Beschreibung

TS1500

The sample is placed inside the ceramic sample cup (2.5mm or 6mm deep sample cups are available) so that the sample can be heated from underneath as well as from the sides. The T96 controller enables the stage to heat samples at an impressive 200°C/min.

The TS1500 can be ordered with vacuum connectors, allowing vacuum conditions to be created within the stage. Electrical connections can also be added to the TS1500 to enable measurement of electrical properties during heating experiments.

An Introduction to the TS1500

 

 

Available High Temperature SYSTEMS

TS1000
Temperature and environmental control from ambient to 1000°C

TS1200
Temperature and environmental control from ambient to 1200°C

TS1500
Temperature and environmental control from ambient to 1500°C

TS1400XY  
Temperature and environmental control from ambient to 1400°C with XY sample manipulators

 

Technicals Specifications

  TS1000 TS1200 TS1500
Temperature Range RT - 1000°C RT - 1200°C RT - 1500°C
Heating/Cooling Rates 0,1°C - 200°C/min 0,1°C - 200°C/min 0,1°C - 200°C/min
Temperature Stability < 1°C < 1°C < 1°C
Sample Cup Size 17mm ∅ x 3mm depth 10mm ∅ x 5mm depth

7mm ∅ x 3mm depth
7mm ∅ x 6mm depth

Objective Lens Working Distance 7,0mm 8,5mm 6,0mm
9,0mm
Light Aperture 1,7mm 1,7mm 1,7mm

 

More models and configurations available. For more information and support please contact us!

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