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Silizium Nitrid (SiN) TEM Window Grids mit durchgängigem Film, Quadrate und Schlitze

Der Siliziumrahmen ist 100µm dick. Die SiN TEM Window Grids passen in normale 3mm- und die meisten Double-Tilt-Probenhalter.

Erhältliche Dicken: 5, 10, 15, 20, 30, 50, 100 und 200nm

Fenster: Quadrate oder Schlitze in den Größen 0,01, 0,025, 0,05, 0,1, 0,15, 0,25, 0,5, 1mm oder Arrays.

Artikel für gruppiertes Produkt
Artikelname Menge
SiN TEM Fenster, 8x 0,1mm Quadrate, 1x 0,1x0,35mm Schlitz, 20nm Filmdicke, 10 Stück

E76042-48

314,50 € 374,26 €
SiN TEM Fenster, 8x 0,25mm Quadrate, 1x 0,25x0,5mm Schlitz, 10nm Filmdicke, 10 Stück

E76042-47

314,50 € 374,26 €
SiN TEM Fenster, 8x 0,1mm Quadrate, 1x 0,1x0,35mm Schlitz, 10nm Filmdicke, 10 Stück

E76042-46

314,50 € 374,26 €
SiN TEM Fenster, 8x 0,05mm Quadrate, 1x 0,05x0,1mm Schlitz, 5nm Filmdicke, 10 Stück

E76042-44

481,10 € 572,51 €

Produktdetails

Beschreibung

Eigenschaften:

  • Plasmareinigung möglich - Entfernung von organischen Verunreinigungen
  • Hochhitzebeständig - bis zu 1000°C und mehr
  • Mechanische Robustheit - halten auch anspruchsvollen experimentellen Bedingungen stand
  • Flach, isolierend und hydrophob - LPCVD, „low-stress“ SiN (<250MPa), nicht-kristallines SiN mit <0,5nm Rauigkeit
  • Chemisch inert - beständig gegenüber Säuren (mit Ausnahme von HF), Basen und Lösungsmitteln
  • Resistent gegen hohe Strahlstromstärken
  • Kohlenstofffrei und ultra-rein
  • Gute Röntgen- und e-Strahl-Transmission
  • Kompatibel – passen in normale 3mm TEM-Probenhalter, achteckig (daher auch gut mit der Pinzette aufnehmbar)
  • Homogen – <0,5nm Variation in der Filmdicke nicht nur im einzelnen Grid sondern über eine komplette Produktions-Log hinweg

 

Anwendungsgebiete:

  • Environmental TEM (dynamische Prozesse bei hohen Temperaturen)
  • Nanopartikel-Untersuchung
  • Charakterisierung von Materialien aus den Bereichen Nano, Halbleiter, optische Kristalle, funktionale Materialien u.v.m.
  • (Quantitative) Kohlenstoff-Analyse (z.B. Fotolack, Polymere, Nahrung, Öl, Kraftstoffe)
  • Kristallzüchtung
  • Röntgen-Mikroskopie and Röntgen-Spektroskopie
  • Dünnfilm-Forschung
  • In-situ-Charakterisierung von chemischen Reaktionen und Temper-Effekten
  • Beobachtung biologischer Systeme durch gute Biokompatibilität: Wachstum von Zellen oder anderen biologischen Einheiten direkt auf dem Film
  • Charakterisierung von Kolloiden, Aerogelen, organischen Materialien, Halbleitern, Kristallen und Nanopartikeln

 

Empfohlene Anwendunge

 

SiN Film-Dicke 

Produktbeispiele und Fenstergröße 

Höchstauflösung 

5nm 

E76042-43, 1 Quadrat (0,025mm) 

E76042-44, 8 Quadrate (0,05mm), 1 Slot (0,05x0,1mm) 

E76042-45, 2 Slots (0,05x1,5mm)* 

 

Hohe Auflösung  

10nm 

E76042-46, 8 Quadrate (0,1mm), 1 Slot (0,1x0,35mm) 

E76042-47, 8 Quadrate (0,25mm), 1 Slot (0,25x0,5mm) 

YSG010Z, 1 Quadrat (0,1mm) 

YSG015Z, 1 Quadrat (0,15mm) 

YSG025Z, 1 Quadrat (0,25mm) 

YSG050Z, 1 Quadrat (0,5mm) 

YSAR010Z, 9 Quadrate (0,1mm) 

 

Routine 

20nm 

YSG001AT, 1 Quadrat (0,01mm) 

E76042-48, 8 Quadrate (0,1mm), 1 Slot (0,1x0,35mm) 

E76042-49, 1 Quadrat (0,5mm) 

E76042-50, 9 Quadrate (0,1mm) 

 

Herausfordernde Bedingungen 

50nm 

E76042-53, 1 Quadrat (0,1mm) 

E76042-52, 1 Quadrat (0,5mm)  

E76042-51, 1 Quadrat (1mm) 

YSTA015C, 2 Slots (0,1x1.5mm) 

E76042-50, 9 Quadrate (0,1mm) 

 

Materialien in Lösung & Cryo-TEM  

Microporös, nanoporös 

E76042-41, 1 Quadrat (0,5mm) 

E76042-40, 1 Quadrat (0,5mm) 

YSME050B, 1 Quadrat (0,5mm), 2,8μm Löcher 

YSME050C, 1 Quadrat (0,5mm), 2,0μm Löcher 

YSME050C10, 1 Quadrat (0,5mm), 10μm Löcher 

YSME050E05, 1 Quadrat (0,5mm), 5μm Löcher 

YSNP-TE025B, 1 Quadrat (0,25mm), 20-200nm Löcher, 50nm SiN 

YSNP-TE010D, 1 Quadrat (0,1mm), 20-200nm Löcher, 200nm SiN 

u.v.m. 

* beschichtet mit 1nm ultrareinem Kohlenstoff, um Aufladung zu minimieren

Weitere Informationen

Weitere Informationen
Film Typ
Durchgängiger SiN-Film
Material
Silizium Nitrid