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TEM Grids, Graphen auf Siliciumnitrid mit 2.5µm Löchern, verschiedene Lagen, Si

Graphenfilm mit unterschiedlicher Anzahl von Lagen, unterstützt von einem Siliciumnitrid-Film auf einem hexagonalen 3mm großen Silicium Substrat mit 0.5x0.5mm großen Apertur. Die TEM Grids sind mit Graphenfilm von 1, 2, 3-5 bis 6-8 Lagen erhältlich. Ideal geeignet für Nanopartikelanalysen.
Artikel für gruppiertes Produkt
Artikelname Menge
TEM Grids, Graphen auf Siliciumnitrid mit 2.5µm Löchern, 2 Lagen, 5 Stück

E2GSiN2.5um-5

346,50 € 412,34 €
TEM Grids, Graphen auf Siliciumnitrid mit 2.5µm Löchern, 1 Lage, 5 Stück

E1GSiN2.5um-5

376,00 € 447,44 €
TEM Grids, Graphen auf Siliciumnitrid mit 2.5µm Löchern, 6-8 Lagen, 10 Stück

E6GSiN2.5um-10

657,70 € 782,66 €
TEM Grids, Graphen auf Siliciumnitrid mit 2.5µm Löchern, 3-5 Lagen, 10 Stück

E3GSiN2.5um-10

657,70 € 782,66 €
TEM Grids, Graphen auf Siliciumnitrid mit 2.5µm Löchern, 2 Lagen, 10 Stück

E2GSiN2.5um-10

657,70 € 782,66 €
TEM Grids, Graphen auf Siliciumnitrid mit 2.5µm Löchern, 1 Lage, 10 Stück

E1GSiN2.5um-10

672,20 € 799,92 €
TEM Grids, Graphen auf Siliciumnitrid mit 2.5µm Löchern, 6-8 Lagen, 25 Stück

E6GSiN2.5um-25

1.365,30 € 1.624,71 €
TEM Grids, Graphen auf Siliciumnitrid mit 2.5µm Löchern, 3-5 Lagen, 25 Stück

E3GSiN2.5um-25

1.365,30 € 1.624,71 €
TEM Grids, Graphen auf Siliciumnitrid mit 2.5µm Löchern, 2 Lagen, 25 Stück

E2GSiN2.5um-25

1.424,20 € 1.694,80 €
TEM Grids, Graphen auf Siliciumnitrid mit 2.5µm Löchern, 1 Lage, 25 Stück

E1GSiN2.5um-25

1.404,10 € 1.670,88 €
TEM Grids, Graphen auf Siliciumnitrid mit 2.5µm Löchern, 6-8 Lagen, 5 Stück

E6GSiN2.5um-5

346,50 € 412,34 €
TEM Grids, Graphen auf Siliciumnitrid mit 2.5µm Löchern, 3-5 Lagen, 5 Stück

E3GSiN2.5um-5

346,50 € 412,34 €

Produktdetails

Beschreibung

Dünne Monolagen von Graphen werden durch den Prozess der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) erzeugt.

Eigenschaften

  • Graphen in 4 Stärken verfügbar: 1, 2, 3-5 oder 6-8 Lagen
  • Substrat ist ein 200nm dünner Siliciumnitrid-Film mit ca. 6400 2.5µm großen Löchern auf einem 200µm dicken hexagonalen 3.0mm Silicium Substrat mit einer 0.5x0.5mm großen Apertur
  • Graphenabdeckung des TEM Grids größer als 75%


Erscheinungsbild

Der Graphenfilm ist je nach Anzahl der Lagen nahezu durchsichtig bis hellgrau und liegt auf der Oberfläche der Siliciumnitrid-Membran. Das hexagonale Silicium Substrat erscheint in grünlicher Farbe.

Spezifikationen

Typ Graphen Dicke
Transparenz TEM Grid Trägerfilm
1 Lagen ~ 0,35nm ~96,4% Silicium, AP 0.5x0.5mm Siliciumnitrid 2.5µm Löcher
2 Lagen ~ 0,7nm ~92,7% Silicium, AP 0.5x0.5mm Siliciumnitrid 2.5µm Löcher
3-5 Lagen 1,0 - 1,7nm ~85,8-90,4% Silicium, AP 0.5x0.5mm Siliciumnitrid 2.5µm Löcher
6-8 Lagen 2,1 - 2,8nm ~78,5-83,2% Silicium, AP 0.5x0.5mm Siliciumnitrid 2.5µm Löcher

CAS Nr. 7782-42-5

Weitere Informationen

Weitere Informationen
Beschichtung
Graphen
Filmdicke 0,35 - 2,8nm
Material
Silizium Nitrid
Hersteller
EMS