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Nanoporöse Silizium-Nitrid-Film TEM Window Grids

Nanoporöse SiN TEM Windows haben einen Film mit Poren in unterschiedlicher Größe im Nanometerbereich (20-200nm) auf einer quadratischen SiN-Membran. Das ermöglicht die Verwendung im TEM ohne störenden Hintergrund. Nanoporöse SiN-Filme sind erhältlich mit SiN-Filmdicken von 15, 20, 30, 50, 100 oder 200nm.

Artikel für gruppiertes Produkt
Artikelname Menge
SiN TEM Membranen, nanoporös, 1 Fenster 0,5mm, 20nm Filmdicke, 10 Stück

E76042-42

Produktdetails

Beschreibung

Eigenschaften:

  • Plasmareinigung möglich - Entfernung von organischen Verunreinigungen
  • Hochhitzebeständig - bis zu 1000°C und mehr
  • Mechanische Robustheit - halten auch anspruchsvollen experimentellen Bedingungen stand
  • Flach, isolierend und hydrophob - LPCVD, „low-stress“ SiN (<250MPa), nicht-kristallines SiN mit <0,5nm Rauigkeit
  • Chemisch inert - beständig gegenüber Säuren (mit Ausnahme von HF), Basen und Lösungsmitteln
  • Resistent gegen hohe Strahlstromstärken
  • Kohlenstofffrei und ultra-rein
  • Gute Röntgen- und e-Strahl-Transmission
  • Kompatibel – passen in normale 3mm TEM-Probenhalter, achteckig (daher auch gut mit der Pinzette aufnehmbar)
  • Homogen – <0,5nm Variation in der Filmdicke nicht nur im einzelnen Grid sondern über eine komplette Produktions-Log hinweg

 

Anwendungsgebiete:

  • Environmental TEM (dynamische Prozesse bei hohen Temperaturen)
  • Nanopartikel-Untersuchung
  • Charakterisierung von Materialien aus den Bereichen Nano, Halbleiter, optische Kristalle, funktionale Materialien u.v.m.
  • (Quantitative) Kohlenstoff-Analyse (z.B. Fotolack, Polymere, Nahrung, Öl, Kraftstoffe)
  • Kristallzüchtung
  • Röntgen-Mikroskopie and Röntgen-Spektroskopie
  • Dünnfilm-Forschung
  • In-situ-Charakterisierung von chemischen Reaktionen und Temper-Effekten
  • Beobachtung biologischer Systeme durch gute Biokompatibilität: Wachstum von Zellen oder anderen biologischen Einheiten direkt auf dem Film
  • Charakterisierung von Kolloiden, Aerogelen, organischen Materialien, Halbleitern, Kristallen und Nanopartikeln

 

Empfohlene Anwendunge

 

SiN Film-Dicke 

Produktbeispiele und Fenstergröße 

Höchstauflösung 

5nm 

E76042-43, 1 Quadrat (0,025mm) 

E76042-44, 8 Quadrate (0,05mm), 1 Slot (0,05x0,1mm) 

E76042-45, 2 Slots (0,05x1,5mm)* 

 

Hohe Auflösung  

10nm 

E76042-46, 8 Quadrate (0,1mm), 1 Slot (0,1x0,35mm) 

E76042-47, 8 Quadrate (0,25mm), 1 Slot (0,25x0,5mm) 

YSG010Z, 1 Quadrat (0,1mm) 

YSG015Z, 1 Quadrat (0,15mm) 

YSG025Z, 1 Quadrat (0,25mm) 

YSG050Z, 1 Quadrat (0,5mm) 

YSAR010Z, 9 Quadrate (0,1mm) 

 

Routine 

20nm 

YSG001AT, 1 Quadrat (0,01mm) 

E76042-48, 8 Quadrate (0,1mm), 1 Slot (0,1x0,35mm) 

E76042-49, 1 Quadrat (0,5mm) 

E76042-50, 9 Quadrate (0,1mm) 

 

Herausfordernde Bedingungen 

50nm 

E76042-53, 1 Quadrat (0,1mm) 

E76042-52, 1 Quadrat (0,5mm)  

E76042-51, 1 Quadrat (1mm) 

YSTA015C, 2 Slots (0,1x1.5mm) 

E76042-50, 9 Quadrate (0,1mm) 

 

Materialien in Lösung & Cryo-TEM  

Microporös, nanoporös 

E76042-41, 1 Quadrat (0,5mm) 

E76042-40, 1 Quadrat (0,5mm) 

YSME050B, 1 Quadrat (0,5mm), 2,8μm Löcher 

YSME050C, 1 Quadrat (0,5mm), 2,0μm Löcher 

YSME050C10, 1 Quadrat (0,5mm), 10μm Löcher 

YSME050E05, 1 Quadrat (0,5mm), 5μm Löcher 

YSNP-TE025B, 1 Quadrat (0,25mm), 20-200nm Löcher, 50nm SiN 

YSNP-TE010D, 1 Quadrat (0,1mm), 20-200nm Löcher, 200nm SiN 

u.v.m. 

* beschichtet mit 1nm ultrareinem Kohlenstoff, um Aufladung zu minimieren

Weitere Informationen

Weitere Informationen
Film Typ
Nanoporöser SiN-Film
Material
Silizium Nitrid